회사설비


14개(1/1페이지)
  • ◆ AAS PinAAcle 900F
  • 기존에 사용하던 AAnalyst 400과 분석원리는 동일하며,

    자동램프정렬 기능 향상으로 분석시간 절감 및 수동조작에 의한 오차가 최소화 되었으며,

    광섬유를 도입한 광학장치가 설치되어 빛의 손실을 최소화하고 장시간 사용시 발생하는

    광학계의 노후화를 없앤 가장 진보된 광학설계 시스템이 장착되어 있다.

  • ◆ ICP-OES : OPTIMA 8300 ICP 방출 분광분석기
  • 유도결합 플라즈마(Inductively Coupled Plasma Optic Emission Spectrometer)의 약자로써 극 미량 정성 및 정량분석이 가능한 첨단의 분석기기이며 아르곤(Ar) 플라즈마로 이온화가 어려운 불활성 기체 원소를 제외한 대부분의 무기원소에 대해 극 미량 분석이 가능 하며 시료는 주로 액체 상태에서 분석이 가능 하다.

  • ◆ AAS : AAnalyst 400
  • 시료 용액을 고온에서 분해하여 원자를 증기화 하고, 이것에 램프를 이용해 뷔추면 발생 원자가 고유의 파장의 빛을 흡수하는 현상을 이용한 것이다. 흡광 비율은 시료원소의 농도에 비례하므로 미리 알고 있는 농도의 표준용액을 측정하여 표준곡선을 만들어 두고, 이것과 비교함으로써 모르는 시료를 정량화 할 수 있다.

  • ◆ 고온소각로
  • LNG를 연료로 하여 고온의 1차 연소실(800도씨)에서 연소시키고, 미연소 되는 가스는 별도의 독립된 2차 연소실(1100도씨 이상)에서 완전히 연소를 시킴.

    고 발열량을 가진 폐기물 - 합성수지(PE, PP), 폐타이어, 고무, 피혁, 우레탄, 스티로폴 등의 소각에 우수한 성능을 발휘함

  • ◆ 박리시설
  • 일반적으로 반도체 리드프레임이나 콘넥타, 핀 등의 전자부품은 귀금속(금, 은, 팔라듐)도금을 하는 경우가 많다. 이러한 전기전자 스크랩으로부터 귀금속 도금 피막을 박리하는 시설.

  • ◆ 전해 귀금속 회수장치
  • 양극에 저 품위 금속과 음극에 얻고자 하는 금속 또는 백금, 티타늄 같은 순수한 금속을 직류 전원에 연결하고, 얻고자 하는 금속의 염을 녹인 전해액을 전기분해하면, 음극에서 고순도의 금속을 석출하는 장치.

  • ◆ 건조오븐
  • 강제 순환 형 열풍건조기로써 300도씨 까지 사용 가능.

    Fan을 이용하여 Heater에서 발생한 열을 강제적으로 대류를 발생시켜 Chamber 내부 온도를 조절하여 세라믹 분말 건조의 기본적인 장비.

  • ◆ 중주파 전기로
  • 피가열물에 교류자기장을 가하여, 이 자기장에 의해 피가열물 속으로 전류가 흘러

    용융하는 전기로로서 금속을 정제하는 데 사용함.(최고 1,200도씨까지 사용가능).

  • ◆ 고주파전기로
  • 금속 및 내화물을 녹이고 합금을 만드는 데 필요한 고온을 얻기 위해 전기를 열원으로

    이용하는 가열로. (최고 1,400도씨까지 사용가능)

  • ◆ 유리반응기
  • 귀금속 용해 및 농축용 50리터, 100리터 유리반응기로써 120도씨 까지 가열 가능함.

    ( 감압 농축도 가능)

  • ◆ 세정탑 및 bag filter 시스텝
  • 대기 환경 방지 시설로 1,2차 세정 탑으로 구성된 세정식 스크라바가 3set 설치 되어있으며,

    소각로 경우 1차 원심력집진기, 2차 bag filte,r 3차 세정탑으로 설치되어 있어 미세먼지

    뿐만 아니라 악취까지 완벽히 처리되는 환경 설비임.

글쓰기
처음페이지이전 10 페이지1다음 10 페이지마지막페이지